高溫馬弗爐適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、化學分析、材料處理、陶瓷、冶金、電子、玻璃、塑料、鋼材、貴金屬、寶石、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材質(zhì)量檢測之用。可根據(jù)用戶需要設(shè)計制造特殊規(guī)格產(chǎn)品。 

高溫馬弗爐怎么確定抽真空的總氣體量 

首先、真空系統(tǒng)工藝過程中產(chǎn)生的氣體。它包括工藝過程中材料放出的氣體以及工藝需要而引入的氣體，同時真空系統(tǒng)中液體或固體蒸發(fā)的氣體也包含其中。不同的工藝過程以及不同的被處理材料，這部分氣體的量的計算都是不同的。  

第二、真空系統(tǒng)內(nèi)原本存在的大氣氣體。真空系統(tǒng)中真空容器室、真空管路等，這些原本就含有一定量的大氣氣體成分，在抽氣初期，它們是真空系統(tǒng)抽氣的主要氣體負荷，也是被系統(tǒng)早抽走的。  

第三、真空系統(tǒng)中的泄漏氣體。泄漏氣體包括大氣通過真空密封的連接處以及各種漏隙通道泄漏進入真空系統(tǒng)內(nèi)部的氣體。對于確定的真空系統(tǒng)來說，泄漏的氣體量是一個常數(shù)。不同的真空系統(tǒng)應(yīng)用、不同的極限壓力，對泄漏氣體的量也有嚴格的控制。  

第四、真空系統(tǒng)中各種材料表面解吸釋放出來的氣體。常壓下，真空系統(tǒng)中的材料表面會吸附、溶解部分氣體。在負壓狀態(tài)下，這部分氣體會被重新釋放出來。它的放氣流量與材料性能、處理工藝以及材料表面狀態(tài)有關(guān)。  

第五、真空系統(tǒng)外大氣通過器壁材料滲透到系統(tǒng)內(nèi)的氣體。氣體在固體中也會發(fā)生溶解、滲透。因此大氣通過容器壁結(jié)構(gòu)材料會向真空系統(tǒng)內(nèi)滲透部分氣體。這種滲透在一般的金屬系統(tǒng)下可以不考慮，但部分應(yīng)用在玻璃真空系統(tǒng)或薄壁金屬系統(tǒng)會需要考慮滲透氣體帶來的影響。